MOS器件退化：P-NMOS特性退化解析-KIA MOS管
信息來(lái)源：本站 日期：2021-07-29
飽和區(qū):
通常Vg<Vd
不利于電子注入
存在界面態(tài)生成條件
NMOS特性退化的3種模式：
對(duì)于帶有LDD的NMOS結(jié)構(gòu)，還有spacer氧化層區(qū)域的退化問(wèn)題。
對(duì)漏端輕摻雜(LDD) NMOSEET's,多一個(gè)附加的退化效應(yīng): spacer氧化層區(qū)域的退化，這里產(chǎn)生的陷阱會(huì)引起漏端電阻的增加。
因此，通常認(rèn)為存在兩個(gè)退化過(guò)程:早期spacer區(qū)域退化占優(yōu)，而隨著應(yīng)力時(shí)間增加，溝道內(nèi)也逐漸出現(xiàn)陷阱，導(dǎo)致器件表現(xiàn)出后期退化規(guī)律。
PMOS特性退化類(lèi)似于NMOS，但相對(duì)NMOS要輕微一些。
飽和區(qū):
|Vg|<|Vd|,但Vg<0 Vd<0
利于電子注入界面態(tài)和氧化層陷阱生成條件
同樣的3種退化條件：
Vg≈Vt :氧化層中產(chǎn)生的大量陷阱俘獲電子，主要位于漏端附近;而空穴陷阱只有少量產(chǎn)生，離漏端有一點(diǎn)距離
Vg=Vd/2:界面陷阱的產(chǎn)生起主要作用
Vg=Vd:可以觀察到氧化層正電荷，而界面陷阱將主要限制PMOSFET的可靠性.
以上三種退化機(jī)制的共同作用，如負(fù)氧化層電荷、界面陷阱、正氧化層電荷的產(chǎn)生，將決定PMOSFET熱載流子退化隨時(shí)間的變化關(guān)系，即器件壽命。
下面這張圖說(shuō)明Vg取一半Vd的原因：此時(shí)襯底電流最大
Vg在一半Vd前后兩種條件下，熱載流子效應(yīng)的差異
聯(lián)系方式：鄒先生
聯(lián)系電話：0755-83888366-8022
手機(jī)：18123972950
QQ：2880195519
聯(lián)系地址：深圳市福田區(qū)車(chē)公廟天安數(shù)碼城天吉大廈CD座5C1
請(qǐng)搜微信公眾號(hào):“KIA半導(dǎo)體”或掃一掃下圖“關(guān)注”官方微信公眾號(hào)
請(qǐng)“關(guān)注”官方微信公眾號(hào):提供 MOS管 技術(shù)幫助
